TFT-LCD液晶屏阵列工艺技术

TFT-LCD液晶屏工艺按加工的先后顺序分为阵列工艺、成盒工艺和模块工艺。本文我们详细介绍一下第一个环节阵列工艺。

阵列工艺类似于半导体工艺在玻璃基板上有规则地做成TFT器件、像素等图案的过程。阵列工艺包含洗净工艺、CVD成膜技术、Sputter成膜技术、光刻胶或光致抗蚀剂（Photoresist，PR）涂覆、显影与剥离技术、曝光技术、湿刻技术、干刻技术等。最终在玻璃基板上形成4~5层薄膜的图案。每层薄膜的图案形成过程如图所示：

阵列工程的工艺流程图

首先把玻璃基板清洗干净，然后成膜（金属Sputter方式，非金属用CVD方式）；在成膜后的基板上涂布PR，并用MASK进行曝光，把需要的图案从MASK转印到PR上，经过显影洗去PR中感光的部分，留下的PR就是所需的图案；接着进行刻蚀工程（一般金属用湿刻，非金属用干刻），去掉无PR保护的薄膜，留下的就是所需的薄膜图案；最后把PR剥离。在阵列工艺最后要进行退火处理，检查工程根据需要贯穿整个阵列工艺。

以上是对TFT LCD液晶屏的阵列工艺进行的详细介绍。希望对大家了解液晶显示屏技术有所帮助。关于TFT液晶屏的定制、选型等任何问题与需求，欢迎咨询德尔西技术人员，我们将为您提供最优的液晶显示屏解决方案。

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